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Military版 - 中国单晶石墨烯制备获突破 生产速度提高150倍
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f***y
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1
http://finance.sina.com.cn/roll/2016-08-11/doc-ifxuxnpy9243107.shtml
据科技日报8月11日消息,中国科学家在《自然·纳米技术》杂志上发表论文称,他们
在单晶石墨烯制备上取得了一项突破。通过对化学气相沉积法(CVD)的调整和改进,
他们将石墨烯薄膜生产的速度提高了150倍。新研究为石墨烯的大规模应用奠定了基础。
石墨烯是由碳原子构成的只有一层原子厚度的二维晶体材料,在电、光、机械强度
上的优异特性,使其在电子学、太阳能电池、传感器等领域有着众多潜在应用。虽然需
求巨大,但其制备速度缓慢,利用率一直徘徊在25%左右,成为制约其进入实际应用的
瓶颈之一。目前制备高质量石墨烯的方法,除胶带剥离法、碳化硅或金属表面外延生长
法外,主要是化学气相沉积法。但通过CVD技术生产单晶石墨烯薄膜仍然需要耗费很长
的时间,制备一块厘米见方的单晶石墨烯薄膜至少需要一天的时间,十分缓慢。
在新的研究中,中国北京大学和香港理工大学的研究人员开发出一种新技术,能将
这一过程从每秒0.4微米加速到每秒60微米,速度提升150倍。而其中的诀窍,就是在参
与反应的铜箔上直接加入了少许氧气。
研究人员表示,氧化物基板会在化学气相沉积过程中高达800摄氏度的高温中释放
出氧气。氧气的连续供应提高了石墨烯的生长速率。他们通过电子能谱分析证实了这一
点,但测量表明,氧气虽然被释放,然而总量很小。研究人员解释说,这可能与氧化物
基板与铜箔之间非常狭小的空间产生了俘获效应,从而提高了氧气的利用效率有关。在
实验中,研究人员能在短短5秒的时间内生产出0.3毫米的单晶石墨烯。
研究人员称,对石墨烯产业而言,该研究意义重大。通过该技术石墨烯的生产将能
采用效率更高的卷对卷制程。而产量的增加和成本的下降,会进一步扩大石墨烯的使用
范围,刺激其需求量的增长。
h******k
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2
这么好的技术不应该公开发表
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