P****R
发帖数: 22479 | 1 发信人: laosheep (laosheep), 信区: Military
标 题: Re: 10纳米的光刻机国产了!
发信站: BBS 未名空间站 (Thu Feb 2 12:42:06 2017, 美东)
假消息吧。我查遍了各大网站和搜索服务器都没有。
甚至
中国科学院光电技术研究所 单位邮编：610209 备案号：蜀ICP备05022581号
单位地址：中国四川省成都市双流350信箱 电子邮件：d*****[email protected]
官网也没有。 |
f**o
发帖数: 12685 | |
a********r
发帖数: 4013 | |
f**o
发帖数: 12685 | |
k******9
发帖数: 170 | |
f**o
发帖数: 12685 | 6 这可不就是纯傻逼么？
【在 k******9 的大作中提到】
: 精神台巴如丧考妣，哈哈哈
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s****e
发帖数: 7018 | |
f**o
发帖数: 12685 | 8 所以只能挣五美分
【在 s****e 的大作中提到】
: 你连光电所都不知道
: 科技文盲
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k**0
发帖数: 19737 | |
d*b
发帖数: 21830 | 10 你这耳光算个球，台南干宁老的203毫米牵引嘴炮没见识过？
【在 k**0 的大作中提到】
: lol 耳光太响了
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k**0
发帖数: 19737 | 11 您老经常一知半解就出来嘴炮，肯定了解更多内幕 lol
【在 d*b 的大作中提到】
: 你这耳光算个球，台南干宁老的203毫米牵引嘴炮没见识过？
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s********i
发帖数: 17328 | |
f**o
发帖数: 12685 | 13 去年四月的新闻，老将现在还不知道
【在 s********i 的大作中提到】
: 去年四月份的新闻现在才高潮？
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d******r
发帖数: 16947 | 14 14年就有了，后来还不止一家 lol
清华向着“人类最精密复杂的机器”又迈出一步_军事_中华网
military.china.com › 评论精选 › 网友原创
2016年5月17日 - 本次“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收，标志中国在双工件
台系统上取得技术突破，但这仅仅是实现光刻机国产化万里长征的一部分，距离
中科院、上微自主研制成功新型光刻机有望局部实现国产化替代 - 观察者网
www.guancha.cn/Science/2016_03_28_355288.shtml
2016年3月28日 - 其实，在半导体设备制造方面，中国和西方差距最大的就是光刻机—
—由于光刻机研发资金需求大，门槛高，从事光刻机研发的企业也越来越少，像
（求证真实性，真的就太HKC了）中国光刻机22纳米技术获重大突破-IT与通讯 ...
lt.cjdby.net › 论坛 › ≡ 超级百科与探索区≡ › IT与通讯技术
2014年12月21日 - 26 个帖子 - 18 个作者
中国光刻机22纳米技术获重大突破2014/12/16 13:03|楼主：绣花老头8中国光刻机22纳
米技术获重大突破全球仅英特尔有量产中国的22纳米
【在 f**o 的大作中提到】
: 去年四月的新闻，老将现在还不知道
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s********i
发帖数: 17328 | |
P****R
发帖数: 22479 | 16 都是假的。
其实都是韩春雨。
【在 d******r 的大作中提到】
: 14年就有了，后来还不止一家 lol
: 清华向着“人类最精密复杂的机器”又迈出一步_军事_中华网
: military.china.com › 评论精选 › 网友原创
: 2016年5月17日 - 本次“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收，标志中国在双工件
: 台系统上取得技术突破，但这仅仅是实现光刻机国产化万里长征的一部分，距离
: 中科院、上微自主研制成功新型光刻机有望局部实现国产化替代 - 观察者网
: www.guancha.cn/Science/2016_03_28_355288.shtml
: 2016年3月28日 - 其实，在半导体设备制造方面，中国和西方差距最大的就是光刻机—
: —由于光刻机研发资金需求大，门槛高，从事光刻机研发的企业也越来越少，像
: （求证真实性，真的就太HKC了）中国光刻机22纳米技术获重大突破-IT与通讯 ...
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n****4
发帖数: 12553 | 17 就算国产了也不算太什么，是写的人对半导体工业不知道。台湾不产机器，台积电却一
家半天下。
【在 P****R 的大作中提到】
: 发信人: laosheep (laosheep), 信区: Military
: 标 题: Re: 10纳米的光刻机国产了!
: 发信站: BBS 未名空间站 (Thu Feb 2 12:42:06 2017, 美东)
: 假消息吧。我查遍了各大网站和搜索服务器都没有。
: 甚至
: 中国科学院光电技术研究所 单位邮编：610209 备案号：蜀ICP备05022581号
: 单位地址：中国四川省成都市双流350信箱 电子邮件：d*****[email protected]
: 官网也没有。
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P****R
发帖数: 22479 | 18 J8也是国产化了，还是垃圾。
【在 n****4 的大作中提到】
: 就算国产了也不算太什么，是写的人对半导体工业不知道。台湾不产机器，台积电却一
: 家半天下。
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P****R
发帖数: 22479 | 19 太行发动机吧？
【在 d******r 的大作中提到】
: 14年就有了，后来还不止一家 lol
: 清华向着“人类最精密复杂的机器”又迈出一步_军事_中华网
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: 2016年5月17日 - 本次“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收，标志中国在双工件
: 台系统上取得技术突破，但这仅仅是实现光刻机国产化万里长征的一部分，距离
: 中科院、上微自主研制成功新型光刻机有望局部实现国产化替代 - 观察者网
: www.guancha.cn/Science/2016_03_28_355288.shtml
: 2016年3月28日 - 其实，在半导体设备制造方面，中国和西方差距最大的就是光刻机—
: —由于光刻机研发资金需求大，门槛高，从事光刻机研发的企业也越来越少，像
: （求证真实性，真的就太HKC了）中国光刻机22纳米技术获重大突破-IT与通讯 ...
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P****R
发帖数: 22479 | 20
【在 s********i 的大作中提到】
: 去年四月份的新闻现在才高潮？
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f***y
发帖数: 4447 | |
P****R
发帖数: 22479 | 22 看原文介绍好像是说最多可以解决90nm的制程，而不是说它的曝光光源的波长是
90nm。如果是这样的话，那是10年前的技术了。 |
P****R
发帖数: 22479 | 23 这个好像是去年4月的新闻，光电所官网上都有这个新闻，但是奇怪的是这么大的
新闻没有一家国内的主流媒体报道，这是什么节奏？ |
P****R
发帖数: 22479 | 24 一个傻逼然后承认：
“22纳米的距离商用还有一段时间！ ”
【在 P****R 的大作中提到】
: 这个好像是去年4月的新闻，光电所官网上都有这个新闻，但是奇怪的是这么大的
: 新闻没有一家国内的主流媒体报道，这是什么节奏？
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P****R
发帖数: 22479 | 25 把还不能做22nm的技术吹成可以做10nm了。
为什么要这样吹？因为要交账的时候到了，不得不吹。 |
P****R
发帖数: 22479 | 26 假的，连个科技进步奖都没获得啊！
快去报科技等外品奖吧？ |
q****5
发帖数: 1660 | 27 2b， 你脸皮是真TM厚。
【在 P****R 的大作中提到】
: 发信人: laosheep (laosheep), 信区: Military
: 标 题: Re: 10纳米的光刻机国产了!
: 发信站: BBS 未名空间站 (Thu Feb 2 12:42:06 2017, 美东)
: 假消息吧。我查遍了各大网站和搜索服务器都没有。
: 甚至
: 中国科学院光电技术研究所 单位邮编：610209 备案号：蜀ICP备05022581号
: 单位地址：中国四川省成都市双流350信箱 电子邮件：d*****[email protected]
: 官网也没有。
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P****R
发帖数: 22479 | 28 中科院、上微自主研制成功新型光刻机 有望局部实现国产化替代
2016-03-28 16:50:04字号：A- A A+来源：观察者网
关键字:光刻机国产光刻机中科院上海微电子光刻工艺
日前，中科院光电技术研究所自主研制成功紫外纳米压印光刻机。与此同时，上海微电
子也发布了平板显示光刻机，产品良率高达95%（原本的良率为70%-80%）的高亮度LED
光刻机，MEMS和功率器件光刻机。虽然媒体仅仅轻描淡写报道，但这些消息却蕴含着不
同寻常的意义。
什么是光刻机？光刻机是芯片生产中最核心的设备，也是大陆芯片生产设备制造的最大
短板。不少网友会将光刻机和刻蚀机搞混，其实，光刻机的工作原理是用光将电路结构
临时“复制”到硅片上，而刻蚀机是按光刻机刻出的电路结构，刻出沟槽的设备，是在
芯片上做减法，与之相应的是做加法（镀膜）。
光刻机用途广泛，有用于生产芯片的前道光刻机，有用于封装的后道光刻机，还有用于
LED制造领域的投影光刻机。前道光刻机就是在芯片生产中将电路图映射到硅片上的光
刻机，后道光刻机也被称为封装光刻机、bumping光刻机，在芯片生产出来后，线路图
是裸露在外面的，还需要用后道光刻机来装个壳，就是常见的芯片四四方方、带针脚和
商标的那一层。现在江阴的长电科技就是用后道光刻机来加工iphone 6芯片的。虽然在
前道光刻机方面严重依赖进口，但在后道光刻机和投影光刻机方面，国内厂商还是颇为
可圈可点的——上海微电子的国内市场占有率超过80%，全球市场占有率为40%；用于
LED制造的投影光刻机的市场占有率为20%。
再来说说光刻机工作原理。通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着
线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同
光刻机的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的
电路图（即芯片）。
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘
、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的
芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。现在最先进的芯片有30多层。
其实，在半导体设备制造方面，中国和西方差距最大的就是光刻机——由于光刻机研发
资金需求大，门槛高，从事光刻机研发的企业也越来越少，像日本的佳能和尼康过去也
做光刻机，早些年Intel为了制衡ASML，扶持日本厂商与ASML对抗。但因日本金融风暴
后失落的20年、少子化造成的产业衰退，佳能和尼康与ASML竞争中的劣势越来越大，佳
能已经基本放弃光刻机领域，尼康的光刻机能做到20nm左右，但市场份额已经被ASML挤
压，无力再继续重金投入研发。
目前，光刻机业界龙头老大是荷兰ASML。而EVU光刻机量产型号已经做到14nm水平，现
在Intel、三星的14nm光刻机都是买自ASML。光刻机研发成本巨大，Intel、台积电、三
星都是它的股东，重金供养ASML，并且有技术人员驻厂，格罗方德、联电以及中芯国际
（大陆代工厂龙头老大）等代工厂的光刻机主要也是来自ASML。 |
P****R
发帖数: 22479 | 29 与ASML相比，中国光刻机企业就显得相当寒碜——中国光刻机厂商有上海微电子装备有
限公司、中国电子科技集团公司第四十五研究所、合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电
科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司。在这几家公司中，处于技术领先的是上
海微电子装备有限公司，该公司已量产的光刻机中性能最好的是90nm光刻机。
早在几年前，上海微电子就制造出90nm光刻机，当时国际主流代工厂的代工水平是65nm
，平心而论，在这个情况下，制造出90nm光刻机，上海微电子还是蛮给力的，但因为最
核心的光源是进口的，国外为了限制中国光刻机制造业，在核心零部件上限制中国，经
常在核心零件上卡我们脖子。在技术上受制于人，导致上海微电子90nm光刻机无法规模
化量产。
同时，西方国家对中国开放65nm光刻机，并通过各种渠道游说中国政府和国企，中国能
够采购到比国产更先进的光刻机后，或多或少的影响了对光刻机核心零部件的研发，不
同程度上减少了对上微的扶持力度。
因国内光刻机市场被外商占据，上微重金研发的90nm光刻机因光源技术上受制于人，导
致产能不稳定，巨额研发资金血本无归。国家减少了扶持力度，导致上海微电子效益很
差，研发人员无法安心研发技术，厂子人心浮动，造成大批技术骨干流失。
西方国家绞杀+在没有掌握核心设备生产能力+科研资金有限+技术团队流失的情况下，
上海微电子的光刻机无法升级，所以到现在一直卡在90nm。
随着核高基02专项解决了光源、物镜等核心部件受制于人的情况，国产光刻机技术进步
即将迎来一个发展期，虽然据小道消息称已经成功研发出55nm级别的光刻机，但由于有
国外大厂淘汰的二手设备的存在，使国产光刻机基本不具备市场竞争力。
而本次上海微电子发布的平板显示光刻机，产品良率高达95%的高亮度LED光刻机，MEMS
和功率器件光刻机主要针对LED制造和MEMS和功率器件等领域；同样，中科院光电技术
研究所自主研制成功紫外纳米压印光刻机并非能取代ASML产品的存在，仅仅是在微纳流
控芯片加工、微纳光学元件、微纳光栅、NMEMS器件等微纳结构器件的制备方面具有市
场潜力。该光刻机有可能是瑞典Obducat公司的Eitre-3同类型产品，而且很有可能依旧
处于实验室阶段。
最后，期待这些国产光刻机早日产业化，也祝愿国产光刻机能越做越好，缩短和ASML的
技术差距。
（作者：铁流 微信公众号：tieliu1988） |
P****R
发帖数: 22479 | 30 中国的几个大牌光刻机单位，在2016年刚刚能够造90nm光刻机，而那时西方已经出售
65nm光刻机给中国了。
所以估计这个成都科学院在研制32nm的光刻机根本做不下去了，就没头没脑跳出来说做
到10nm了，骗西方人卖22nm光刻机给他们，然后请民工打磨铭牌，变成是西南成都科学
分院的产品。
现在中国科技人员胆大包天，竟敢欺骗中央，连包子都敢骗。 |
|
|
P****R
发帖数: 22479 | |
P****R
发帖数: 22479 | 32 2016年3月刚刚勉强能够造90nm光刻机，西方随即出售65nm光刻机。
从成都峨眉山石头里面突然蹦出一只野种猴子，人模狗样地吹会造10nm光刻机了。 |
P****R
发帖数: 22479 | |
d*****i
发帖数: 3905 | 34 90 65 22 14 10这些都是node的名字，这几年node就是个纯商业名称，那个数字基本没
有实际意义。
光刻机关键是看单次曝光能做到的最小size。搞multi patterning啥的不算数，台积电
的10用的还是193nm浸入式，7应该也是。
这个新闻说能做22nm,其实对应的最小feature其实应该在40+，根现有193没啥进步。
【在 P****R 的大作中提到】
: 90nm光刻机10年前立项，至今还不稳定。
|
P****R
发帖数: 22479 | 35 查一查成都这个单位是不是打过包票，现在要跳票了。
【在 d*****i 的大作中提到】
: 90 65 22 14 10这些都是node的名字，这几年node就是个纯商业名称，那个数字基本没
: 有实际意义。
: 光刻机关键是看单次曝光能做到的最小size。搞multi patterning啥的不算数，台积电
: 的10用的还是193nm浸入式，7应该也是。
: 这个新闻说能做22nm,其实对应的最小feature其实应该在40+，根现有193没啥进步。
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d*****i
发帖数: 3905 | 36 我没看过新闻细节。
但是要说光刻，本身是个工程问题，原理本事不是问题的核心。
这里头产率，defectivity，overlay，稳定性都是缺一不可的关键。
就好比做芯片难，但是做一个可以工作的transistor并不难，好多大学实验室里就能干
【在 P****R 的大作中提到】
: 查一查成都这个单位是不是打过包票，现在要跳票了。
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P****R
发帖数: 22479 | 37 飞机多多少少各个国家都会造，到了波音737这种级别就是一个坎，毛子都造不好这个
级别。
中国人有大国情节，以为大就应该造所有的东西。中国人什么都想要，什么都做不好。
美国人都不造光刻机了。
荷兰人是物理光学的祖先，看看光学教科书里面有多少荷兰人的名字。中国人没有这种
积累。
【在 d*****i 的大作中提到】
: 我没看过新闻细节。
: 但是要说光刻，本身是个工程问题，原理本事不是问题的核心。
: 这里头产率，defectivity，overlay，稳定性都是缺一不可的关键。
: 就好比做芯片难，但是做一个可以工作的transistor并不难，好多大学实验室里就能干
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t******0
发帖数: 153 | 38 这他娘的还是猪娘养的吗？不，不，不，是狗娘养的，否则不会这么多脑狗屎。臭翻了
mitbbs. |
P****R
发帖数: 22479 | 39 為了2017年量產7nm工藝，三星首次引入了EUV光刻機
三星、TSMC發力新一代工藝，不僅10nm工藝量產時間超過Intel，下下代的7nm節點上也
在摩拳擦掌，這兩家爭著在明年搶先量產，而三星更是第一家引入量產型EUV光刻機，
後者是製造7nm及5nm處理器的關鍵設備。
由於半導體工藝越來越複雜，Intel的「Tick-Tock」鐘擺戰略已經放緩，從2年升級一
次工藝變成了3年一次，10nm工藝已經延後到了2017年下半年。Intel腳步放慢，三星、
TSMC可算是得到超越的機會了，原本跟在Intel後面的它們發力新一代工藝，不僅10nm
工藝量產時間超過Intel，下下代的7nm節點上也在摩拳擦掌，這兩家爭著在明年搶先量
產，而三星更是第一家引入量產型EUV光刻機，後者是製造7nm及5nm處理器的關鍵設備。
先進半導體製造工藝越來越困難，原有的技術手段已經不適用，製造10nm以下的電晶體
需要極其複雜的工藝和設備，ASML的EUV光刻機就是其中的關鍵，EUV代表極紫外光，波
長193nm 13nm（波長越短，光刻解析度越高，電晶體就越小），可用於製造10nm及以下
工藝的晶片，但EUV光刻機研發了這麼多年，進度並不如預期那麼順利，此前樂觀的預
測甚至說14nm節點就能用上EUV技術，但現實很骨感，10nm節點都註定沒戲了。
三星、TSMC都想搶在Intel之前量產7nm工藝，此前TSMC準備在7nm節點啟用EUV工藝，並
耗資引進EUV光刻機，但目前的情況來看TSMC已經把EUV量產放在了5nm工藝上。現在三
星接過了EUV搶先的勢頭，ASML公司CEO已經確認三星上周購買了EUV光刻機NXE3400，這
將是EUV光刻機的正式量產型號。
從設備安裝到開始生產，至少要2-3個季度，這意味著三星的7nm工藝會爭取在明年推出
，按照之前的發展過程來看，明年底三星可能會宣布量產7nm工藝——雖然實際上可能
只是小批量生產，真正的大規模量產可能還要等到2018年之後。
關注超能網微信公眾號exp2006，原創科技資訊精彩不斷。
原文網址：https://kknews.cc/tech/kx38g8.html |
P****R
发帖数: 22479 | 40 半导体制造工艺进入10nm之后，难度越来越大，Intel为此多次调整了产品策略，10nm
工艺的产品推迟到今年底，以致于很多人认为摩尔定律将死。推动科技进步的半导体技
术真的会停滞不前吗？这也不太可能，7nm工艺节点将开始应用EUV光刻工艺，研发EUV
光刻机的ASML表示EUV工艺将会支持未来15年，部分客户已经在讨论2030年的1.5nm工艺
路线图了。
此前的报道中我们也解释了半导体芯片制造过程中，光刻是非常关键的一步，决定了芯
片的技术水平。目前使用的是沉浸式光刻工艺，未来则是EUV（即紫外光刻）工艺。不
过EUV工艺研发实在太难了，早在2006年业界就开始联合研发EUV工艺，直到10年后的今
天，EUV光刻机才开始小批量生产，荷兰ASML公司日前在财报中提到去年底他们售出6台
EUV光刻机，总数达到了18台，总价值超过20亿欧元。
今年半导体公司将升级到10nm节点，不过还是用不上EUV工艺，ASML表示在2018年底到
2019年初的7nm工艺节点上，EUV工艺才会正式启用，那时候传统的沉浸式光刻工艺也会
遭遇极限。
现在半导体公司提到的新一代制程工艺除了7nm之外，还有5nm、3nm，那么更远的未来
呢？ASML公司CEO Peter Wennink在接受采访时表示EUV工艺不仅能降低7nm、5nm的成
本，他们还看的更远，可支撑未来15年，也就是考虑2030年前后的工艺了，ASML表示已
经有客户在讨论未来的1.5nm工艺路线图了。
如ASML所说，EUV工艺未来也会升级，现在的EUV工艺数值孔径还是0.33，可用两三代工
艺，不过去年他们宣布20亿美元入股卡尔蔡司子公司SMT，双方将合作开发0.5孔径的
EUV工艺，还可以再支撑两三代工艺，不过这样的EUV光刻机要等到2024年才能问世。 |
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P****R
发帖数: 22479 | 41
【在 t******0 的大作中提到】
: 这他娘的还是猪娘养的吗？不，不，不，是狗娘养的，否则不会这么多脑狗屎。臭翻了
: mitbbs.
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s*****r
发帖数: 43070 | 42 成都光电所是搞研究的，咋可能生产工业化的光刻机，可能是研发相关技术，被记者拿
来胡扯
【在 P****R 的大作中提到】
: 查一查成都这个单位是不是打过包票，现在要跳票了。
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s*****r
发帖数: 43070 | 43 这可能是GF在成都投资建厂的关键，7nm光刻机有了，老式的22nm早晚要被淘汰，正好
倒腾给中国
不过对中国来讲，22nm光刻机也是先进设备的，目前最牛的只有intel在大连的65nm光
刻机，比22nm又落后太多
10nm
EUV
【在 P****R 的大作中提到】
: 半导体制造工艺进入10nm之后，难度越来越大，Intel为此多次调整了产品策略，10nm
: 工艺的产品推迟到今年底，以致于很多人认为摩尔定律将死。推动科技进步的半导体技
: 术真的会停滞不前吗？这也不太可能，7nm工艺节点将开始应用EUV光刻工艺，研发EUV
: 光刻机的ASML表示EUV工艺将会支持未来15年，部分客户已经在讨论2030年的1.5nm工艺
: 路线图了。
: 此前的报道中我们也解释了半导体芯片制造过程中，光刻是非常关键的一步，决定了芯
: 片的技术水平。目前使用的是沉浸式光刻工艺，未来则是EUV（即紫外光刻）工艺。不
: 过EUV工艺研发实在太难了，早在2006年业界就开始联合研发EUV工艺，直到10年后的今
: 天，EUV光刻机才开始小批量生产，荷兰ASML公司日前在财报中提到去年底他们售出6台
: EUV光刻机，总数达到了18台，总价值超过20亿欧元。
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