s********e
发帖数: 13723 | 1 http://www.22ic.cn/html/16/n-3116.html
2010年7月16日下午，上海微电子装备有限公司（简称“SMEE”）和江阴长电先进封
装有限公司 （简称“JCAP”）在江苏省江阴市联合召开了“首台先进封装光刻机使用
现场汇报会暨SMEE与JCAP战略合作协议的签约仪式”会议。科技部、国家科技重大专项
“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”实施管理办公室和总体专家组、专项咨询委
、上海市科委、江阴市政府等单位的领导出席了会议，科技部曹健林副部长等领导做了
重要讲话。
随着集成电路产业的发展，高端芯片的集成度已经达到数千至数亿晶体管，推动着
芯片封装技术向更高密度、更高性能发展，使基于凸点工艺的封装成为主流技术，对封
装光刻机的性能也大幅提高，传统的接近/接触式光刻机已不能满足高性能、高密度、
低成本等先进封装工艺发展需求，先进的大视场、大焦深、高精度投影光刻机成为先进
封装生产线的关键设备。为了改变该类先进封装光刻机完全依赖进口局面，上海微电子
装备有限公司在国家科技重大专项和上海市科委等部门的支持下，成功开发出了用于倒
装焊凸点制备的先进封装 |
s********e
发帖数: 13723 | |
z***o
发帖数: 1254 | 3 上海微电是国家最重要的光刻机研发机构， 大部分的投入都给他们了， 都干了多少年
了，到现在还是没有像样的东西拿出来 |
s********e
发帖数: 13723 | 4 日，每次一个新闻背后都是一个令人沮丧的事实
【在 z***o 的大作中提到】
: 上海微电是国家最重要的光刻机研发机构， 大部分的投入都给他们了， 都干了多少年
: 了，到现在还是没有像样的东西拿出来
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h*******2
发帖数: 5093 | 5 这次打磨技术可能有提高
【在 s********e 的大作中提到】
: 日，每次一个新闻背后都是一个令人沮丧的事实
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s***d
发帖数: 15421 | 6 感觉这是还是海龟做比较靠谱~~原applied materials的副总裁~海归上海后那个中微半
导体设备就很不错~蚀刻已近45nm了~光刻 貌似100nm~ |
s********e
发帖数: 13723 | 7 大陆本土半导体设备业者中微半导体尽管在与国际大厂应用材料(Applied Materials)
及科林研发(Lam Research)官司缠讼之中，但开拓市场脚步未停歇，目前45纳米蚀刻机
台已经打入台积电12寸厂，正在进行设备验证，同时也与韩国存储器业者合作当中。中
微亚太区总经理朱新武表示，中微完全是走自主研发路线，目前不仅65/45纳米机台已
打入一线半导体业者供应商行列，也已着手下1世代32纳米制程技术研发。
中微是目前大陆最具潜力的本土半导体设备业者，其设备已获得中芯国际12寸厂采
用，主要投资者包括知名创投业者华登(Walden)、 LightSpeed、Redpoint，以及投资
银行高盛(Goldman Sachs)、半导体业者高通(Qualcomm)及科磊(KLA-Tencor)等。
中微表示，2008年10月完成C系列(Series C)集资动作后，所筹集资金1.69亿美元
可因应到2011年营运所需不成问题。中微除投资者大有来头，最近与国际大厂的缠讼案
也成为外界瞩目焦点，包括对上应用材料及科林研发等，据了解，与应用材料的商业秘
密官司，有可能在近日内朝向和解方向 |
z***o
发帖数: 1254 | 8 尹志尧的公司不作光刻机。国内光刻机好像就上海这家在做。 光刻机难度是最大的，
一时半会儿憋不出来很正常。
【在 s***d 的大作中提到】
: 感觉这是还是海龟做比较靠谱~~原applied materials的副总裁~海归上海后那个中微半
: 导体设备就很不错~蚀刻已近45nm了~光刻 貌似100nm~
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s***d
发帖数: 15421 | 9 我搞错了。。他们家还是做etching的主要~~但是我总是模糊地记得他们家也做stepper
的啊。。。。
【在 s********e 的大作中提到】
: 大陆本土半导体设备业者中微半导体尽管在与国际大厂应用材料(Applied Materials)
: 及科林研发(Lam Research)官司缠讼之中，但开拓市场脚步未停歇，目前45纳米蚀刻机
: 台已经打入台积电12寸厂，正在进行设备验证，同时也与韩国存储器业者合作当中。中
: 微亚太区总经理朱新武表示，中微完全是走自主研发路线，目前不仅65/45纳米机台已
: 打入一线半导体业者供应商行列，也已着手下1世代32纳米制程技术研发。
: 中微是目前大陆最具潜力的本土半导体设备业者，其设备已获得中芯国际12寸厂采
: 用，主要投资者包括知名创投业者华登(Walden)、 LightSpeed、Redpoint，以及投资
: 银行高盛(Goldman Sachs)、半导体业者高通(Qualcomm)及科磊(KLA-Tencor)等。
: 中微表示，2008年10月完成C系列(Series C)集资动作后，所筹集资金1.69亿美元
: 可因应到2011年营运所需不成问题。中微除投资者大有来头，最近与国际大厂的缠讼案
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s***d
发帖数: 15421 | 10 确实~stepper 确实难做~老美都是外包给 日本荷兰。。上海电子装备的是100nm？？
还是步进投影的光刻~~
如果用上dual pattern 估计可以达到65nm
SSA600/10型步进扫描投影光刻机用于集成电路前道工艺，可满足用户100nm工艺节点的
需求。该设备采用高性能193nmArF准分子激光光源，结合大数值孔径投影物镜和离轴照
明技术，可实现高分辨率和高工艺稳定性；可变数值孔径和多种照明模式可满足不同光
刻分辨率和焦深要求；大曝光视场、快速对准技术和高同步扫描速度，可实现高生产率
、高性能掩模对准和硅片对准技术以及高精度工件台掩模台控制精度，可满足高套刻精
度要求。
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【在 z***o 的大作中提到】
: 尹志尧的公司不作光刻机。国内光刻机好像就上海这家在做。 光刻机难度是最大的，
: 一时半会儿憋不出来很正常。
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O**********S
发帖数: 1806 | 11 怎么叫光刻机难道是“最大”？你是指contact aligner，还是stepper？要说难，只要
精度要求高的，没有不难的，没有什么最难这一说。均匀性、重复性好的dry etching
设备难不难？均匀性、稳定性好的CVD设备难不难？
，
【在 z***o 的大作中提到】
: 尹志尧的公司不作光刻机。国内光刻机好像就上海这家在做。 光刻机难度是最大的，
: 一时半会儿憋不出来很正常。
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