c**y
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发信人: ccyy (ccyy), 信区: EE
标 题: 用双层胶和单层胶 Liftoff metal 的区别
发信站: BBS 未名空间站 (Fri Aug 13 14:26:42 2010, 美东)
用双层胶来 lift off metal比较容易，但是最后形成的metal stripe会有undercut，
然后第二步光刻又会在这个 metal 的 undercut 形成的 photo resist residual 很难
去掉。
想用单层胶来做 lift off, 不知道会不会解决 metal undercut 这个问题？
Thanks! | f***r
发帖数: 344 | 2 confused, indeed i have never seen this undercut in double layer lift off. i
missed that? | b******n
发帖数: 80 | 3 我记得有一种LOR 3A的胶，可以解决你的问题。 |
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