f***y
发帖数: 4447 | 1 要白菜了
http://www.tsinghua.edu.cn/publish/news/4209/2016/2016020215523
国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发”项目通过内部验收
清华新闻网2月2日电 1月29-30日，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装
备及成套工艺”（简称02专项）实施管理办公室在清华大学组织召开了“光刻机双工件
台系统样机研发”项目的专项内部验收会。
项目由清华大学承担，机械工程系朱煜教授担任项目负责人，项目总经费2.23亿元
。该项目以研制光刻机双工件台系统样机为目标，为我国自主研发65-28nm双工件台干
式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的核心子系统。该项目联合了华中科技大学、
上海微电子装备有限公司和成都工具所3家单位，下设10个课题，清华大学机械工程系
、精密仪器系和材料学院分别承担了其中6个课题，机械工程系IC装备团队承担了样机
集成研发等核心任务。
光刻机双工件台项目内部验收会现场。刘 峰 摄
验收专家组由相关领域22名技术专家和财务专家组成，02专项咨询专家委员会主任
马俊如研究员担任任务验收专家组组长。02专项技术总师叶甜春研究员、清华大学科研
院院长周羽教授、机械工程学院院长雒建斌院士及财务处相关负责人出席了验收会。
验收组专家在清华大学IC装备研究室净化间实地考察研发的光刻机工件台样机。刘 峰 摄
验收会上，专家组认真听取了项目及各课题负责人关于项目及课题完成情况的汇报
、用户代表上海微电子装备有限公司对项目样机测试验证的报告和现场测试专家组的测
试报告，审阅了验收材料和财务资料。经过充分讨论、质询和评议，专家组一致同意该
项目通过内部任务验收和财务验收。
验收专家组认为，项目研究团队针对光刻机双工件台技术，历经5年完成了任务合
同书的全部研究内容，突破了平面电机、微动台、超精密测量、超精密运动控制、系统
动力学分析、先进工程材料制备及应用等若干关键技术，攻克了光刻机工件台系统设计
和集成技术，通过多轮样机的迭代研发，最终研制出2套光刻机双工件台掩模台系统α
样机，并通过了相关测试，达到了预定的全部技术指标。围绕双工件台技术完成专利申
请231项（其中国际发明专利41项），已获得授权122项。培养了一支近200人的专业研
发团队，建立了高水平研发平台，为后续产品研发和产业化打下了坚实的基础。 专家
认为，该项目的完成，标志着我国成为世界上少数可以研制光刻机双工件台这一超精密
机械与测控技术领域最尖端系统的国家，显著提升了我国在高端光刻机这一战略高科技
产品研发方面的竞争能力。
专家认为，该项目的完成，标志着我国成为世界上少数可以研制光刻机双工件台这
一超精密机械与测控技术领域最尖端系统的国家，显著提升了我国在高端光刻机这一战
略高科技产品研发方面的竞争能力。
该项目是02专项核心任务光刻机项目群中第一个验收的项目。项目将在近期由02专
项实施管理办公室组织正式验收。 |
l*****i
发帖数: 20533 | 2 比荷兰德国日本之类主流光刻机研发商还是落后一代不止。
不过感谢技术封锁，中国现在拥有从光刻机制造晶圆制造一直到GpU设计乃至超级计算
机设计并最后到其重大应用的完整技术链。这在世界上倒也难得。 |
M****h
发帖数: 4405 | 3 现在主流是20nm技术，台积电的是14nm技术，正在研发7nm技术
差了3代
不过从军工角度上来说，没什么大区别，主要是发热差距大，商用上需要考虑
【在 l*****i 的大作中提到】
: 比荷兰德国日本之类主流光刻机研发商还是落后一代不止。
: 不过感谢技术封锁，中国现在拥有从光刻机制造晶圆制造一直到GpU设计乃至超级计算
: 机设计并最后到其重大应用的完整技术链。这在世界上倒也难得。
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k**1
发帖数: 1955 | 4 靠学校和科学院开发就是把钱往水里撒. 鉴定会一开, 机器就成trash
【在 f***y 的大作中提到】
: 要白菜了
: http://www.tsinghua.edu.cn/publish/news/4209/2016/2016020215523
: 国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发”项目通过内部验收
: 清华新闻网2月2日电 1月29-30日，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装
: 备及成套工艺”（简称02专项）实施管理办公室在清华大学组织召开了“光刻机双工件
: 台系统样机研发”项目的专项内部验收会。
: 项目由清华大学承担，机械工程系朱煜教授担任项目负责人，项目总经费2.23亿元
: 。该项目以研制光刻机双工件台系统样机为目标，为我国自主研发65-28nm双工件台干
: 式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的核心子系统。该项目联合了华中科技大学、
: 上海微电子装备有限公司和成都工具所3家单位，下设10个课题，清华大学机械工程系
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d******r
发帖数: 16947 | 5 清华ok的，希望来个竞争
【在 f***y 的大作中提到】
: 要白菜了
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: 国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发”项目通过内部验收
: 清华新闻网2月2日电 1月29-30日，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装
: 备及成套工艺”（简称02专项）实施管理办公室在清华大学组织召开了“光刻机双工件
: 台系统样机研发”项目的专项内部验收会。
: 项目由清华大学承担，机械工程系朱煜教授担任项目负责人，项目总经费2.23亿元
: 。该项目以研制光刻机双工件台系统样机为目标，为我国自主研发65-28nm双工件台干
: 式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的核心子系统。该项目联合了华中科技大学、
: 上海微电子装备有限公司和成都工具所3家单位，下设10个课题，清华大学机械工程系
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d******r
发帖数: 16947 | 6 弯弯也有光刻机了？
【在 M****h 的大作中提到】
: 现在主流是20nm技术，台积电的是14nm技术，正在研发7nm技术
: 差了3代
: 不过从军工角度上来说，没什么大区别，主要是发热差距大，商用上需要考虑
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c***l
发帖数: 2490 | 7 鳖第4家.
前三家：荷兰ASML、日本Nikon、日本Canon。
去年就喊28nm搞出来了，现在才验收啊。。。 |
l*****o
发帖数: 9235 | |
k**********4
发帖数: 16092 | 9 真主伟大
【在 f***y 的大作中提到】
: 要白菜了
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: 备及成套工艺”（简称02专项）实施管理办公室在清华大学组织召开了“光刻机双工件
: 台系统样机研发”项目的专项内部验收会。
: 项目由清华大学承担，机械工程系朱煜教授担任项目负责人，项目总经费2.23亿元
: 。该项目以研制光刻机双工件台系统样机为目标，为我国自主研发65-28nm双工件台干
: 式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的核心子系统。该项目联合了华中科技大学、
: 上海微电子装备有限公司和成都工具所3家单位，下设10个课题，清华大学机械工程系
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x***q
发帖数: 4953 | 10 基本没有屁用, 骗经费可以,
光刻机最关键的部件是德国卡尔蔡斯的镜头, 这种垃圾根本没有人会用
【在 f***y 的大作中提到】
: 要白菜了
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: 国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发”项目通过内部验收
: 清华新闻网2月2日电 1月29-30日，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装
: 备及成套工艺”（简称02专项）实施管理办公室在清华大学组织召开了“光刻机双工件
: 台系统样机研发”项目的专项内部验收会。
: 项目由清华大学承担，机械工程系朱煜教授担任项目负责人，项目总经费2.23亿元
: 。该项目以研制光刻机双工件台系统样机为目标，为我国自主研发65-28nm双工件台干
: 式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的核心子系统。该项目联合了华中科技大学、
: 上海微电子装备有限公司和成都工具所3家单位，下设10个课题，清华大学机械工程系
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x***q
发帖数: 4953 | 11 吹牛不是这么吹的, 流片才能算,
【在 c***l 的大作中提到】
: 鳖第4家.
: 前三家：荷兰ASML、日本Nikon、日本Canon。
: 去年就喊28nm搞出来了，现在才验收啊。。。
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l*******3
发帖数: 68 | 12 上海微电子早就开发了90nm的光刻机了。已经卖了不少给中芯国际和台积电了。现在也
在开发更新的设备。 |
H********n
发帖数: 207 | 13 这个不是光刻机，是里面的机械平台。核心部分的光学系统，不知道有没有在做？
楼上有个说的对，28纳米光刻机如果能做出来基本也够用了，做高端手机芯片，因为功
耗的原因不行，但是绝大多数芯片足够了，一代core i7 32nm就做了。即使是存储器，
现在都往3D走，28nm也是绰绰有余。 |
a******9
发帖数: 20431 | 14 技术角度而言蔡司和asml谁更牛逼？
【在 x***q 的大作中提到】
: 基本没有屁用, 骗经费可以,
: 光刻机最关键的部件是德国卡尔蔡斯的镜头, 这种垃圾根本没有人会用
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f***y
发帖数: 4447 | 15 看清楚新闻，清华联合上海微电子装备有限公司
【在 k**1 的大作中提到】
: 靠学校和科学院开发就是把钱往水里撒. 鉴定会一开, 机器就成trash
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l**********n
发帖数: 1742 | 16 弯弯全程掌控。
【在 f***y 的大作中提到】
: 要白菜了
: http://www.tsinghua.edu.cn/publish/news/4209/2016/2016020215523
: 国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发”项目通过内部验收
: 清华新闻网2月2日电 1月29-30日，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装
: 备及成套工艺”（简称02专项）实施管理办公室在清华大学组织召开了“光刻机双工件
: 台系统样机研发”项目的专项内部验收会。
: 项目由清华大学承担，机械工程系朱煜教授担任项目负责人，项目总经费2.23亿元
: 。该项目以研制光刻机双工件台系统样机为目标，为我国自主研发65-28nm双工件台干
: 式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的核心子系统。该项目联合了华中科技大学、
: 上海微电子装备有限公司和成都工具所3家单位，下设10个课题，清华大学机械工程系
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l**********n
发帖数: 1742 | 17 7nm 那个也就是听他们说说
物理上不可操作。
【在 M****h 的大作中提到】
: 现在主流是20nm技术，台积电的是14nm技术，正在研发7nm技术
: 差了3代
: 不过从军工角度上来说，没什么大区别，主要是发热差距大，商用上需要考虑
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f***y
发帖数: 4447 | 18 听说最复杂是防抖动，包挂地球自转
【在 x***q 的大作中提到】
: 基本没有屁用, 骗经费可以,
: 光刻机最关键的部件是德国卡尔蔡斯的镜头, 这种垃圾根本没有人会用
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H********n
发帖数: 207 | 19 那个部分不可操作？
【在 l**********n 的大作中提到】
: 7nm 那个也就是听他们说说
: 物理上不可操作。
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l**********n
发帖数: 1742 | 20 这个得问IBM
他们那么牛，怎么不卖给制造商赚钱？难道他们太有钱，留着好东西下崽儿？
【在 H********n 的大作中提到】
: 那个部分不可操作？
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x****y
发帖数: 1853 | 21 这两家是合作关系，不是竞争关系。
Asml当年是philips和蔡司弄的joint venture, 由蔡司提供光学，asml做系统平台。光
源由cymer提供。
光刻机核心技术就是三样: 光源，光学和系统集成。光源技术从80nm到28nm一直没变，
都是193i的源。变得主要是目镜变成immersion lens, 增大了数值孔径。同时系统的微
振动和热漂移也要稳定在nm量级。这个难度蛮高。不知道清华这个平台是否自己设计。
28到14nm主要靠玩exposure的trick, 例如intel 的double/multiple patterning. 这
主要是软件的进步。14以下就得拼EUV了。
【在 a******9 的大作中提到】
: 技术角度而言蔡司和asml谁更牛逼？
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m******g
发帖数: 621 | 22 属实。
FINFET用SPACER LITHOGRAPHY/ SELF-ALIGNED DOUBLE PATTERNING
10估计不是EUV，估计是SELF-ALIGNED QUADRUPLE PATTERNING
EUV问题太大，光源迟迟解决不了。
【在 x****y 的大作中提到】
: 这两家是合作关系，不是竞争关系。
: Asml当年是philips和蔡司弄的joint venture, 由蔡司提供光学，asml做系统平台。光
: 源由cymer提供。
: 光刻机核心技术就是三样: 光源，光学和系统集成。光源技术从80nm到28nm一直没变，
: 都是193i的源。变得主要是目镜变成immersion lens, 增大了数值孔径。同时系统的微
: 振动和热漂移也要稳定在nm量级。这个难度蛮高。不知道清华这个平台是否自己设计。
: 28到14nm主要靠玩exposure的trick, 例如intel 的double/multiple patterning. 这
: 主要是软件的进步。14以下就得拼EUV了。
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x****y
发帖数: 1853 | 23 EUV光源ok, 就是你得忍受每run一个小时就得歇半个小时。
【在 m******g 的大作中提到】
: 属实。
: FINFET用SPACER LITHOGRAPHY/ SELF-ALIGNED DOUBLE PATTERNING
: 10估计不是EUV，估计是SELF-ALIGNED QUADRUPLE PATTERNING
: EUV问题太大，光源迟迟解决不了。
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l*****o
发帖数: 9235 | 24 军用是不是２８纳米足够了？
超级计算机呢？
【在 x****y 的大作中提到】
: EUV光源ok, 就是你得忍受每run一个小时就得歇半个小时。
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t*****a
发帖数: 5180 | 25 麻痹的中科院光电所才是主力，清华的骗点钱，糊弄Paper还行，真要出活，靠不住。 |
a***e
发帖数: 27968 | 26 光刻机现在牛叉的是运动部件
拿东西动起来快一米每秒，停下后定位精度nm，震动啥都得控制住，每小时250片的输
出，一片要几十次曝光
定位稳定的时间都非常短，同时要进行各种光学矫正
★ 发自iPhone App: ChineseWeb 1.0.6
【在 x****y 的大作中提到】
: 这两家是合作关系，不是竞争关系。
: Asml当年是philips和蔡司弄的joint venture, 由蔡司提供光学，asml做系统平台。光
: 源由cymer提供。
: 光刻机核心技术就是三样: 光源，光学和系统集成。光源技术从80nm到28nm一直没变，
: 都是193i的源。变得主要是目镜变成immersion lens, 增大了数值孔径。同时系统的微
: 振动和热漂移也要稳定在nm量级。这个难度蛮高。不知道清华这个平台是否自己设计。
: 28到14nm主要靠玩exposure的trick, 例如intel 的double/multiple patterning. 这
: 主要是软件的进步。14以下就得拼EUV了。
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a***e
发帖数: 27968 | 27 OK啥，亮度还差了一个量级
★ 发自iPhone App: ChineseWeb 1.0.6
【在 x****y 的大作中提到】
: EUV光源ok, 就是你得忍受每run一个小时就得歇半个小时。
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z***y
发帖数: 219 | 28 哥以前设计了里面的短程电机控制电路。。。
条件非常苛刻，技术要求还是很高的 |
d*****n
发帖数: 3033 | 29 这验收组比陈进的那个档次高点不
【在 f***y 的大作中提到】
: 要白菜了
: http://www.tsinghua.edu.cn/publish/news/4209/2016/2016020215523
: 国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发”项目通过内部验收
: 清华新闻网2月2日电 1月29-30日，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装
: 备及成套工艺”（简称02专项）实施管理办公室在清华大学组织召开了“光刻机双工件
: 台系统样机研发”项目的专项内部验收会。
: 项目由清华大学承担，机械工程系朱煜教授担任项目负责人，项目总经费2.23亿元
: 。该项目以研制光刻机双工件台系统样机为目标，为我国自主研发65-28nm双工件台干
: 式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的核心子系统。该项目联合了华中科技大学、
: 上海微电子装备有限公司和成都工具所3家单位，下设10个课题，清华大学机械工程系
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d********8
发帖数: 691 | 30 我也觉得机械这部分比光学更难
EUV这次似乎是狼真的要来了
【在 a***e 的大作中提到】
: 光刻机现在牛叉的是运动部件
: 拿东西动起来快一米每秒，停下后定位精度nm，震动啥都得控制住，每小时250片的输
: 出，一片要几十次曝光
: 定位稳定的时间都非常短，同时要进行各种光学矫正
:
: ★ 发自iPhone App: ChineseWeb 1.0.6
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s*****t
发帖数: 987 | 31
28nm的时候都在说EUV 现在还没有用上呀
【在 d********8 的大作中提到】
: 我也觉得机械这部分比光学更难
: EUV这次似乎是狼真的要来了
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y*z
发帖数: 3244 | 32 印度的洲际导弹还在用80186呢。
啥都别说了，够用就好。
【在 l*****o 的大作中提到】
: 军用是不是２８纳米足够了？
: 超级计算机呢？
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H********n
发帖数: 207 | 33 这狼就算真来了，也快没兔子吃了。等了这么多年，到7nm之后，光刻未必是最大难题
了，说不定现在的半导体器件结构和制造方法真的到头了，要革命了
【在 d********8 的大作中提到】
: 我也觉得机械这部分比光学更难
: EUV这次似乎是狼真的要来了
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D*****i
发帖数: 8922 | 34 asml就用蔡司的镜头。
【在 a******9 的大作中提到】
: 技术角度而言蔡司和asml谁更牛逼？
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c****h
发帖数: 4968 | 35 不错，有了28nm作基础，向下进一步发展就会容易多了，无非是提高精度。
还是那句话，台巴子成天把什么10几纳米吹得那么凶，实际技术比没有领先大陆多少。
要不台积电也不会来南京设厂了。搞台巴子，一定要把几个指标性的企业和产业搞垮。
湾湾的技术都是买的。丫的面板产业已经不行了，下一个就是半导体。 |
D*****i
发帖数: 8922 | 36 军用半导体的生产线很多比民用落后至少十年以上，落后好几代是常事。有个真实例子
：有美国厂商要升级生产线，军方阻止他们，说你们别升级了，我们出钱替你养着；你
们一升级，新生产线要通过政府和军方的考核和验收，一个流程走下来，好几年工夫都
耽误了，你们这不是让我们的零部件好几年断货吗？
【在 l*****o 的大作中提到】
: 军用是不是２８纳米足够了？
: 超级计算机呢？
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S*******s
发帖数: 13043 | 37 为啥会耽误、会断货？
【在 D*****i 的大作中提到】
: 军用半导体的生产线很多比民用落后至少十年以上，落后好几代是常事。有个真实例子
: ：有美国厂商要升级生产线，军方阻止他们，说你们别升级了，我们出钱替你养着；你
: 们一升级，新生产线要通过政府和军方的考核和验收，一个流程走下来，好几年工夫都
: 耽误了，你们这不是让我们的零部件好几年断货吗？
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d********8
发帖数: 691 | 38 本来就只是难题之一啊，EUV至少可以降低工艺复杂度和成本
到头是要到头了，革命估计不会有，所以白菜化也快了
【在 H********n 的大作中提到】
: 这狼就算真来了，也快没兔子吃了。等了这么多年，到7nm之后，光刻未必是最大难题
: 了，说不定现在的半导体器件结构和制造方法真的到头了，要革命了
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l*b
发帖数: 4369 | 39 14纳米三星比台积电搞得早，S6用自产芯片而不用台积电生产的球康810就是因为这个。
14纳米的下一代是10纳米，再下一代是7纳米。
【在 M****h 的大作中提到】
: 现在主流是20nm技术，台积电的是14nm技术，正在研发7nm技术
: 差了3代
: 不过从军工角度上来说，没什么大区别，主要是发热差距大，商用上需要考虑
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l*b
发帖数: 4369 | 40 你说的这三家是HVM的。小规模实验室用的光刻机还有很多。
【在 c***l 的大作中提到】
: 鳖第4家.
: 前三家：荷兰ASML、日本Nikon、日本Canon。
: 去年就喊28nm搞出来了，现在才验收啊。。。
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l*b
发帖数: 4369 | 41 湾湾可以买到最新型的光刻机
【在 d******r 的大作中提到】
: 弯弯也有光刻机了？
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